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Atomic Layer Deposition

Name: Atomic Layer Deposition
Brand: Wiley-Scrivener
SKU: 39915569
Price: 233.96 EUR
Availability: InStock
Author: Tommi K&auml;&auml;ri&auml;inen
ISBN: 9781118747384

Tommi Kääriäinen

David Cameron

Marja-Leena Kääriäinen

Arthur Sherman

Sprache

Englisch

E-Book Adobe ePub DRM

Libristo-Code: 39915569

Verlag Wiley-Scrivener, Mai 2013

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Vollständige Beschreibung

Libristo-Code: 39915569

566 b

233.96 €

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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Informationen zum Buch

Vollständiger Name Atomic Layer Deposition

Autor Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Arthur Sherman

Sprache

Englisch

Einband E-Book - Adobe ePub DRM

Datum der Veröffentlichung 2013

EAN 9781118747384

Libristo-Code 39915569

Verlag Wiley-Scrivener

Kategorie

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Elektronik, Nachrichtentechnik > Elektronik > Elektronische Geräte und Materialien

Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse > Maschinenbau und Werkstoffe

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